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真空鍍膜

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推薦電鍍污水中有機污染物去除工藝

電鍍廢水中的有機污染物來源主要有3個方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機污染物的3種去除方法：生化法、微波化學法和物化法。

ZnSe光學薄膜對GaAs表面特性的影響

用GaAs襯底表面模擬半導體激光器的解理腔面, 研究了不同的光學薄膜對GaAs表面特性的影響。
真空制鏡機功能的開發

用制鏡機作裝飾鍍的關鍵是鍍件在真空室體中的安裝和相應的蒸發源的布置。總結了不同類型鍍件的安裝與蒸發源的布置方法。
電弧離子鍍的旋轉橫向磁場弧源設計

本文提出了電弧離子鍍工藝一種新的旋轉橫向磁場的設計思路, 通過頻率和強度可調且覆蓋整個靶面的旋轉橫向磁場控制弧斑的運動。
基于多晶硅的曲面高反膜研究

本文提出并初步實現一種提高等離子顯示面板(PDP) 出光率的多層干涉型反射膜。
磁過濾陰極電弧技術沉積高sp3鍵含量四面體非晶碳薄膜的工藝優化研究

通過對不同基片偏壓下磁過濾器電流對四面體非晶碳( ta-C) 薄膜sp3鍵含量影響的研究, 探討了磁過濾陰極電弧技術制備高sp3 鍵ta-C 薄膜優化工藝條件。
硬質合金表面TiAlZrCr/(Ti,Al,Zr,Cr)N梯度膜的微結構與力學性能

采用多弧離子鍍技術, 使用Ti-Al-Zr合金靶和Cr單質靶, 在WC-8%CO硬質合金基體上制備了TiAlZrCr/(Ti,Al,Zr,Cr)N多組元梯度膜。
晶體結構對Er/Yb共摻TiO2薄膜熒光光譜的影響

通過對不同退火溫度下Er/Yb共摻TiO2薄膜的結構和光致熒光光譜(PL) 的分析, 研究了退火處理所導致的晶體結構變化對薄膜熒光光譜的影響。
涂層結構對Ti-Al-N涂層氧化行為的影響
低出口壓力下噴嘴內部空化流動模擬分析

本文以真空噴射法制備聚合物薄膜為出發點, 利用Ansys Fluent 和Gambit 軟件對低壓力下平口噴嘴內的空化流動進行了模擬分析。
覆Os膜M型陰極高發射性能隨真空度變化的研究

本文開展了覆Os膜M型陰極高發射性能隨真空度變化的研究相關模擬研究。
Al2O3-Cr多層中高溫選擇吸收薄膜的研究

本文提出基于Al2O3 介質和金屬Cr 的多層結構的選擇吸收膜系, 首先采用電子束熱蒸發在硅基底上沉積了單層Cr 薄膜, 通過橢偏儀測試并分析了Cr 薄膜的光學常數。
15-5PH不銹鋼基體上硬質膜層制備及性能研究

對比不同的表面處理工藝, 選擇多弧離子鍍方法在15-5PH不銹鋼基材表面制備TiN 硬質涂層。
平口噴嘴的真空射流霧化模擬分析

基于breakup 和collision 液滴破碎模型采用Fluent 和Gambit 軟件對平口噴嘴的真空射流霧化進行了模擬, 研究了環境壓力、噴射壓力和噴嘴直徑等參數對射流霧化結構和液滴索特平均直徑的影響。
基于雙層TiO2復合ZnO薄膜電池的制備及光電性能的研究

制備致密二氧化鈦薄膜，并結合水熱法在致密薄膜上制備多孔二氧化鈦薄膜，然后再制備成TiO2/ZnO復合薄膜，將所制得的復合薄膜分別作為光陽極制備成染料敏化太陽能電池。
脈沖疊加直流偏壓電弧離子鍍TiCrNx薄膜的制備與性能研究

采用脈沖疊加直流偏壓電弧離子鍍技術在硬質合金刀具表面制備TiCrNx 薄膜，利用XRD，SEM，多功能材料表面性能測試儀等對TiCrNx 薄膜進行表征。
PLD法制備NiO薄膜及結構和形貌的研究

利用脈沖激光沉積法(PLD)在Si 襯底上制備NiO 薄膜，利用X 射線衍射(XRD)和原子力顯微鏡(AFM)對所制備薄膜的晶體結構和表面形貌進行表征分析。
真空蒸發制備Sb摻雜CdTe薄膜

采用真空蒸發技術在玻璃襯底上制備了Sb摻雜的CdTe薄膜，Sb摻雜使得薄膜表面更加均勻致密，也使薄膜的帶隙寬度有所減小，大大降低了薄膜的電阻率。
采用改進型多弧離子鍍膜設備鍍制裝飾膜層的研究

本論文以裝飾鍍膜中常用的二氧化鈦膜為研究對象，對比了設備改進前后膜層的性能。
真空條件下物質的蒸發特點

本文講述了真空條件下常見物質的蒸發特點。
具備光吸收增強效應的銀納米顆粒層的制備及性能研究

本文利用熱蒸發退火的方法制備Ag 納米顆粒，通過掃描電子顯微鏡，觀察在潔凈硅片表面熱蒸發制備出的薄膜厚度和退火得到的納米顆粒陣列的分布情況