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真空鍍膜

電鍍廢水中的有機污染物來源主要有3個方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機污染物的3種去除方法：生化法、微波化學法和物化法。

真空蒸鍍阻隔包裝薄膜的主要制備方法和應用

真空蒸鍍阻隔包裝薄膜的主要制備方法主要可分為物理氣相沉積和等離子體增強化學氣相沉積。物理氣相沉積法可分為蒸鍍法和濺射法。化學氣相沉積主要是PVDC。
在銅和硬質合金上金剛石膜的沉積研究

銅上金剛石薄膜的制備有很大的困難，主要原因在于銅與金剛石之間沒有化學反應，無相應的碳化物生成；同時銅和金剛石的熱膨脹系數的差異過大。本文首先研究了高純銅片上金剛石的形核，采用亞微米金剛石涂層顯著地增強
真空鍍鋁工藝

真空鍍鋁是在真空狀態下，將鋁金屬加熱熔融至蒸發，鋁原子凝結在高分子材料表面，形成極薄的鋁層。真空鍍鋁常見的問題有：薄膜表面出現褐色條紋、鍍鋁時薄膜出現孔洞、鍍鋁時薄膜出現拉伸現象。本文給出了一些解決方
真空鍍膜機膜厚監控的方法

真空鍍膜機的操作系統中最關鍵最直接的部份膜厚監控系統目前主要有微電腦數控式、水晶振動子式、光電式以及正在發展的數控與光電相結合式幾種方式。
化學氣相沉積技術在冷拔模具上的應用

化學氣相沉積（CVD）技術是近年來國際上發展和應用較廣的一項先進技術。上海冷拉型鋼廠將這項技術應用于模具，取得顯著效益。