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基于DIABEAM法的電子束能量密度測試分析
為了充分發揮電子束焊接技術在航空航天領域的作用,對反映束流品質的關鍵因素—電子束能量密度開展了研究;基于法拉第傳感原理,通過DIABEAM測試法對真空電子束焊機電子束能量密度分布進行測試分析。
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Fe/Si多層膜經快速熱退火合成β-FeSi2薄膜的研究
采用磁控濺射儀在高阻Si(100)襯底上沉積了[Fe(0.5nm)/Si(1.6nm)]120和[Fe(1nm)/Si(3.2nm)]60多層膜,并在Ar氣氣氛下進行了1000℃,10s 的快速熱退火。
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Al-C-N非晶薄膜結構及導電性研究
為了揭示Al-C-N 非晶薄膜的結構、導電性以及它們之間的關系,本文采用非平衡磁控濺射沉積技術在Si (100) 基體上沉積得到了不同Al含量的Al-C-N薄膜。
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小圓平面靶磁控濺射鍍膜均勻性研究
從圓平面靶磁控濺射的原理出發,針對圓形平面靶面積小于基片面積的特點進行分析,建立膜厚分布的數學模型,并利用計算機進行模擬計算,目的在于探尋平面靶材面積小于基片面積時影響膜厚均勻性的因素
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大面積VHF-PECVD反應室噴淋式平板電極間電場和流場數值模擬
以大面積噴淋式平板電極甚高頻等離子體增強化學氣相沉積(VHF-PECVD)反應室為研究對象,利用FlexPDE和CFD-ACE+ 商業軟件,對反應室電極間的電場和流場分布進行了數值模擬
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