真空應(yīng)用
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雙微通道板紫外像增強器工作特性研究
為了研究雙微通道板(MCP)對紫外像增強器輻射增益的影響,本文利用南京理工大學(xué)制造的寬光譜像管增益測試儀,對單MCP和雙MCP紫外像增強器的輻射增益分別進行了測試分析。
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氧化鎳溶膠-凝膠薄膜阻變特性研究
用溶膠-凝膠法在ITO基片上旋涂制備了NiO薄膜, 通過對ITO/NiO薄膜/GaIn器件進行伏安特性測試, 研究了溶膠濃度、退火、層數(shù)以及Cu摻雜等對其電學(xué)特性的影響。
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可調(diào)脈沖功率(MPP)磁控濺射電源研制及放電特性的研究
可調(diào)脈沖電源MPP(modulated pulsed power)磁控濺射技術(shù)是一種新型的高功率磁控濺射技術(shù)。
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新型弧光輝光協(xié)同共放電(APSCD)真空鍍膜機的研制
本文闡述了新型的弧光輝光協(xié)同共放電真空鍍膜機的設(shè)計思想及應(yīng)用,敘述了鍍膜機的整體結(jié)構(gòu)、圓柱靶的設(shè)計和磁場模擬、工件籃的結(jié)構(gòu)和輝光弧光共放電的原理。
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鎂熱法制備海綿鈦還原產(chǎn)物真空蒸餾分離研究
對目前國內(nèi)外通用的鎂熱法制備海綿鈦還原工序生成物的組成進行了分析,計算得出了各組分的飽和蒸汽壓值,并對還原反應(yīng)生成的鈦的低價氯化物真空離解反應(yīng)進行了熱力學(xué)分析。
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直流磁控濺射中磁場強度和陰極電壓對圓平面靶刻蝕形貌的影響
本文借助Comsol和Matlab軟件模擬了直流磁控濺射圓平面靶系統(tǒng)的磁場分布和荷電粒子分布,對不同磁場強度和陰極電壓條件下的荷電粒子分布進行了模擬分析。
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有限元軟件在真空電弧爐稱重機構(gòu)結(jié)構(gòu)分析中的應(yīng)用
首先利用Algor 軟件對真空自耗電極電弧爐的稱重機構(gòu)進行強度分析,再嘗試更改工況條件,分析其能否滿足VCFW- 8T 的實際使用要求并進行系列化應(yīng)用。
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氮氣流量對電弧離子鍍CrN薄膜組織結(jié)構(gòu)和性能的影響
利用電弧離子鍍技術(shù)在高速鋼基體上于不同氮氣流量條件下制備CrN薄膜樣品,分析了薄膜的硬度、彈性模量、厚度、表面形貌和物相結(jié)構(gòu)。
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真空管道汽車能否走出夢想?
目前關(guān)于真空管道運輸?shù)难芯恐饕杏诟咚倭熊嚿系氖褂谩.旉P(guān)于真空管道列車的討論正風(fēng)生水起時,關(guān)于真空管道汽車的探討卻是一片死寂,汽車領(lǐng)域的專家表示還未考慮真空管道運輸技術(shù)。
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太陽能選擇性吸收薄膜常用制備方法
太陽能選擇性吸收薄膜常用的制備方法主要有化學(xué)鍍、電化學(xué)沉積法( 電鍍和陽極氧化法)、化學(xué)轉(zhuǎn)換著色法、溶膠凝膠法、刷涂法、高頻磁控濺射法、氣相沉積法及等離子噴涂法等。
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太陽能選擇性吸收薄膜材料選擇與吸收機理
金屬、金屬氧化物、金屬硫化物和半導(dǎo)體等成為制備太陽能選擇性薄膜的主要材質(zhì),形成了很多種類型的綜合應(yīng)用為主要類型的多種太陽能選擇性薄膜。
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等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)是借助微波或射頻等使含有薄膜